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Tsmc revoluciona el chip: 2nm y gate-all-around impulsan la nueva era

La carrera por miniaturizar los procesadores alcanza un nuevo nivel con el debut de TSMC en la tecnología 2nm. Un avance que promete un salto cuántico en rendimiento y eficiencia energética para smartphones y computadoras.

Samsung y galaxy s26: los primeros en adoptar el chip de segunda generación

El primer smartphone en integrar un procesador fabricado con un proceso de 2nm fue el Samsung Galaxy S26 y el S26+ que llegaron al mercado en Europa, Corea del Sur, India, Sudeste Asiático, Oriente Medio y África. Estos dispositivos se equiparon con el Exynos 2600, diseñado y fabricado por Samsung, demostrando la rápida adopción de esta tecnología avanzada.

Pero no todo es historia reciente. El año anterior, el Exynos 2500 ya utilizaba un proceso de 3nm de Samsung Foundry. La clave reside en la reducción de la dimensión de los transistores, lo que permite integrar un mayor número de ellos en un espacio limitado, incrementando la densidad de los mismos.

Tsmc apuesta por gate-all-around (gaa) y super power rail

Tsmc apuesta por gate-all-around (gaa) y super power rail

Para superar las limitaciones de los procesos anteriores, TSMC ha implementado la tecnología Gate-All-Around (GAA), que envuelve el canal de los transistores por sus cuatro lados, minimizando las fugas de corriente y aumentando la velocidad de conmutación. Esta innovación permite alcanzar velocidades de reloj más altas y mejorar el rendimiento general del chip.

Además, la compañía presenta el ‘Super Power Rail’ (SPR), una solución innovadora para la gestión de energía que mueve los cables de alimentación hacia la parte posterior del chip, evitando la acumulación de resistencia y la pérdida de voltaje. Esto, a su vez, contribuye a una mayor eficiencia energética y una vida útil de la batería más prolongada.

Del 2nm al a16: un salto de 8-10% en rendimiento

Del 2nm al a16: un salto de 8-10% en rendimiento

La nueva generación de chips TSMC, incluyendo el A16, promete un aumento significativo en el rendimiento, con un incremento de entre un 8% y un 10% en comparación con el nodo N2P. Este avance se traduce en una mayor velocidad de procesamiento, una menor necesidad de energía y un aumento en la densidad de los transistores. El chip A16, denominado también N2X, se espera que sea producido masivamente a partir de finales de 2026, aunque la primera implementación en dispositivos podría llegar en 2027-2028.

La reducción del área también permite aumentar el número de chips que se pueden obtener de una sola lámina de silicio, lo que podría traducirse en una disminución de los costes. La compatibilidad con el diseño A14, sin necesidad de modificaciones importantes, garantiza la continuidad para los fabricantes. El chip A13, previsto para 2029, se enfoca en la computación de alto rendimiento (HPC), la inteligencia artificial y el ámbito móvil, con una reducción del 6% en el área.

Un futuro con backside power delivery y densidad sin precedentes

La estrategia de TSMC se centra en la innovación continua, con el objetivo de mantener su liderazgo en el sector. El despliegue del SPR y la adopción de la tecnología GAA marcan el inicio de una nueva era en el diseño de chips, prometiendo un futuro de dispositivos más potentes, eficientes y compactos. El camino hacia el angstrom, con nodos como A14, A13 y A12, allana el escenario para una evolución constante de la tecnología.